728x90 1. PATTERNING UNIT PROCESS/3. PHOTO MASK(RETICLE)1 Phase Shift Mask (위상전이 마스크) Phase Shift Mask(위상전이마스크)는 Resolution을 향상하기 위한 RET 기술 중 하나인 mask 기술입니다. 줄여서 PSM은 resolution 공정 상수 k1 factor를 줄입니다. 그래서 더욱 작은 patterning이 가능하게 합니다.PSM은 binary mask와 다르게 투과광의 전기장 위상을 180도 반전시켜 contrast를 극대화하여 image slope을 개선해 주는 Photo mask입니다. PSM은 Weak PSM과 Strong PSM으로 나뉩니다.전기장(E-field) 180도 반전시키고 intensity로 변환해 보면 기존 Binary mask 대비 Imin 값이 더 떨어지므로 contrast 및 image slope이 개선됩니다. 이에 따라 resol.. 2023. 7. 13. 이전 1 다음 728x90
