728x90 EUV 기술 개발 현황1 EUV OPC TECH EUV OPC는 기존 ArF, KrF에서 진행했던 OPC와는 다른 Work flow를 가지고 있습니다. EUV 설비의 구조적 차이점과 EUV 광의 특성으로 인해서 다른 term을 EUV OPC Model에 반영해줘야 합니다.일반적인 ArF OPC와 다른 점은 하기와 같습니다.1. EUV mask S/L 외곽에 OD(Optical Density) 공정(Annealing)을 통해서 EUV광 반사율을 감소시켜주고, OoB(Out of Band) 제거 공정을 통해 Grating을 삽입하여 DUV광을 제거해 줍니다. OPC에선 shot edge에서의 Mask BB의 불필요한 EUV reflection 및 half shadow 영향성을 correction 해줍니다.2. UNICOM은 Uniformity Corr.. 2023. 9. 11. 이전 1 다음 728x90
