728x90 3. OPTICAL PROXIMITY CORRECTION TECH/2. OPC MODELINIG2 Sampling in Modeling OPC model에서 Gauge data는 공정을 모사하는데 매우 중요합니다. empirical Data로 공정의 behavior를 따라가게 해야 하는데 정합성 있는 data가 필수이기 때문입니다. Design Rule을 반영, Layer 특성 및 동일layer의 이전 DB, 조명계 등을 종합적으로 고려해서 샘플 coverage가 놃으면서 anchor및 weak point를 잘 대변할 수 있도록 sampling하는 것이 목표입니다. 여러번 shot을 측정하여 산포가 없는 정합성 있는 Measured CD를 넣고 이를 모델링 툴에 넣고 모델링을 진행합니다. 샘플 중 PW margin이 부족한 layer의 경우엔 PW gauge가 필요할 수도 있습니다. 많은 point를 넣으면 모델 interpolation.. 2023. 8. 3. OPC Modeling flow 공정 수준과 Data 거동을 그대로 모사하는 것을 modeling이라고 합니다. OPC modeling은 포토 공정의 CD data의 거동을 그대로 흉내 내어 광근접 보정 효과를 입혀서 원하는 ADI 혹은 ACI target을 얻는 모델링입니다. 같은 공정 같은 layer라고 하더라도 각 공장 site마다 공정 CD 거동이 다를 수 있으므로 site별로 OPC model 제작이 필요합니다. OPC modeling 절차에 대해서 알아보겠습니다. 1. Sampling Plan : 제품의 Design Rule을 바탕으로 min pitch, min ISO space/width, SRAM, patterning weak point들을 Modeling Photo mask에서 추출합니다. 그리고 제품 DB와 현재 추출.. 2023. 7. 7. 이전 1 다음 728x90
