728x90 3. OPTICAL PROXIMITY CORRECTION TECH28 EUV OPC TECH EUV OPC는 기존 ArF, KrF에서 진행했던 OPC와는 다른 Work flow를 가지고 있습니다. EUV 설비의 구조적 차이점과 EUV 광의 특성으로 인해서 다른 term을 EUV OPC Model에 반영해줘야 합니다.일반적인 ArF OPC와 다른 점은 하기와 같습니다.1. EUV mask S/L 외곽에 OD(Optical Density) 공정(Annealing)을 통해서 EUV광 반사율을 감소시켜주고, OoB(Out of Band) 제거 공정을 통해 Grating을 삽입하여 DUV광을 제거해 줍니다. OPC에선 shot edge에서의 Mask BB의 불필요한 EUV reflection 및 half shadow 영향성을 correction 해줍니다.2. UNICOM은 Uniformity Corr.. 2023. 9. 11. DESIGN RULE CHECK CODE [SVRF : POLYGON-DIRECTED] Siemens DRC language인 SVRF 중에서 Derived Error Edge commend(INT/EXT/ENC)를 알아보았고, 이 commend는 다른 operation layer의 input으로 활용할 수 없다는 것을 알았습니다. 다른 layer의 input으로 활용하려면 대괄호[ ] 혹은 소괄호( ) 넣어서 output을 뽑을 수 있었습니다. 이 edge layer를 통해서 원하는 operation을 할 수 있는 polygon directed rule check을 알아보겠습니다. AND는 두개 layer의 교집합인 영역을 선언해주는 명령어입니다. 즉, 두 layer가 겹쳐지는 영역에 대해서 알고 싶을 때 사용하는 명령어입니다. NOT 명령어는 Polygon끼지 빼주는 명령어로서 기준 l.. 2023. 8. 29. DESIGN RULE CHECK CODE[SVRF : INT/EXT/ENC] 설계가 끝난 후 PG out을 통해서 나온 polygon layer들을 Photo mask에 그려질 OPCed pattern으로 만드는 과정이 필요합니다. 그 과정은 TDLO/OPC step인데, 이 과정 전에 중요한 step이 있습니다. TDLO/OPC를 수행하기 전에 Design Rule Check 과정을 통해서 설계도 대로 그렸는지 확인하는 작업을 하고, 이를 위반하였을 경우 수정하도록 합니다. 그리고 나서 Original DB가 release됩니다. DR대로 그렸는지를 확인 할 때 사용하는 language가 mentor사의 SVRF code 입니다. SVRF command에 대해서 알아보겠습니다. SVRF code는 Standard Verification Rule Formate의 약자로 speci.. 2023. 8. 29. FORBIDDEN PITCH SOLUTION Lithography에서 forbidden pitch란 특정 조명계에서 특정 pitch의 영향성으로 poor Image quality가 나타나는 현상이 생기는 pitch 영역대를 말합니다. 그 영역대는 대략 Resolution pitch의 1.6~1.9x 정도되며 이 영역에서는 1st order와 2nd order의 간섭이 발생하여 contrast가 불량해지기 때문에 Image quality가 안좋습니다. forbidden pitch 영향성은 sigma out쪽에 pole이 많이 분포하는 조명계에서 많이 보입니다. Conventional illumination보단 Dipole illumination 에서 forbidden pitch 영향성이 잘보입니다. 아래 그래프처럼 Conventional il.. 2023. 8. 28. SRAF RULE GENERATION SRAF은 RET 기술 중 하나로 Sub-Resolution Assit Feature의 약자 입니다. SRAF은 ISO 혹은 SEMI ISO pattern의 DOF margin을 향상해줍니다. Dense pattern보다 ISO pattern인 경우에 Depth of Focus margin이 부족한 경우가 있는데, ISO pattern을 Dense pattern과 유사한 환경으로 만들기 위해 Print 되지 않는 pattern을 photo mask에 삽입해줍니다.SRAF을 Main feature로 부터 적절하게 떨어진 위치에 적절한 SIZE의 SRAF을 추가하여 DENSE 환경과 같이 만들어 DOF 를 확보해줍니다. Pattern edge에는 회절로인한 side lobe가 생기는데 이로인해 pattern.. 2023. 8. 3. Sampling in Modeling OPC model에서 Gauge data는 공정을 모사하는데 매우 중요합니다. empirical Data로 공정의 behavior를 따라가게 해야 하는데 정합성 있는 data가 필수이기 때문입니다. Design Rule을 반영, Layer 특성 및 동일layer의 이전 DB, 조명계 등을 종합적으로 고려해서 샘플 coverage가 놃으면서 anchor및 weak point를 잘 대변할 수 있도록 sampling하는 것이 목표입니다. 여러번 shot을 측정하여 산포가 없는 정합성 있는 Measured CD를 넣고 이를 모델링 툴에 넣고 모델링을 진행합니다. 샘플 중 PW margin이 부족한 layer의 경우엔 PW gauge가 필요할 수도 있습니다. 많은 point를 넣으면 모델 interpolation.. 2023. 8. 3. OPC correction의 종류와 algorithm 예전 120nm~150nm 공정 시에는 Optical Proximity Effect로 발생한 ADI CD - target = diff를 사람이 일일이 Manual로 보정해기도 했습니다. 사람이 일일이 CD diff pattern을 찾아서 하나씩 직접 보정해 주어 시간이 오래 걸렸습니다. 그걸 manual OPC라고 불렀습니다. 그러다 그걸 table로 보정해 주는 기법이 개발되었습니다. 그래서 table compensation 값을 rule로 만들어서 보정해 주는 방법을 Rule Based OPC라고 했습니다. Line End shortening을 보정하기 위해 extension 해주거나 1D bias를 보정해주는 작업 등입니다. 그러나 rule을 보정하기엔 rule과 rule 사이에 안맞는 부분이 발견.. 2023. 8. 3. Curvilinear Optical Proximity Correction MRC Free(Curvilinear) OPC는 전통적인 Manhattanized pattern인 OPCed shape을 벗어나 rounding shape으로 만들어서 ADI Target을 기존 OPC보다 EPE를 더 잘 맞추고 PW margin도 확보하는 OPC 기술입니다. 구현하고자 하는 TDLO Target 끼리 가까이 있는 경우, mask 제작 한계(min space)로 인해서 OPC shape을 가깝게 만들 수 없습니다. 이 제작 한계는 MRC rule이라는 규칙으로 강력히 규제되고 있습니다. Curvilinear OPC를 적용하게 되면 manhattanized shape을 rounding type로 바꾸어 MRC rule 지키면서 ADI contour를 target에 가깝게 만들어주게 됩니다... 2023. 7. 20. Optical Proximity Correction (광근접효과 보정기술) Optical Proximity Correction은 광근접효과 보정이라는 기술로 빛의 회절로 인한 wafer 위의 Photo Resist 이미지 왜곡 현상을 보정해 주는 기술로 patterning Resolution을 향상하는데 도움이 됩니다. resolution 공정 상수 k1 factor를 줄여주는 방법입니다. illumination source로부터 나온 빛은 포토마스크를 거쳐 회절이 되는데 포토마스크에 투사된 이미지는 설계한 것보다 좁거나 넓은 선 폭과 같은 불규칙성을 나타냅니다. 이 왜곡된 이미지는 사용되는 포토마스크의 패턴을 변경하여 보정할 수 있습니다. image를 보정해 주는 방법으로는 사람이 직접 일일이 보정해 주는 manual OPC가 있고, 왜곡된 구간을 특정하여 table로.. 2023. 7. 14. Partial Coherence (부분 가간섭도) * Coherence 정의와 종류 coherence는 우리나라 말로 결맞음(일관성)이라고 부르며, 두 파동이 간섭할 가능성을 말합니다. 간섭이 되면 두 개의 파동이 합쳐져 더 큰 진폭의 파동(보강간섭)이 되거나, 서로 상쇄되어 파동이 없어질 수 있습니다.(상쇄간섭) coherence가 없으면 파동은 서로 간섭하지 않습니다. 빛에는 시간적 결맞음과 공간적 결맞음, 부분적 결맞음의 종류가 있습니다. coherent ligth으로는 laser가 있고, incoherent light으로는 자연광(햇빛)이 있습니다. 1) Temperal Coherence : 시간적 결맞음(일관성)은 시간의 흐름에 따라 wave length가 얼마나 균일하게 유지되는지를 나타냅니다. 즉, 시간에 따라 주파수가 얼마나 일정한지를 보.. 2023. 7. 12. 이전 1 2 3 다음 728x90
