728x90 3. OPTICAL PROXIMITY CORRECTION TECH28 Polarization 편광의 영향성 Polarization 편광은 전자기파가 진행할 때 파를 구성하는 전기장이나 자기장이 특정한 방향으로 진동하는 현상을 말합니다. 일반적인 의미의 전자기파는 모든 방향으로 진동하는 빛이 혼합된 상태를 말하지만, 특정한 광물질이나 광학필터를 사용해 편광 된 상태의 빛을 얻을 수 있습니다. 노광 설비에서 NA가 커질수록 image에 미치는 편광 효과가 커지게 됩니다. 이 편광 효과로 인해서 patterning quality가 달라질 수 있습니다. TE mode는 pattern의 방향과 입사하는 빛의 편광 방향이 평행한 방향으로 입사한 빛의 전기장의 방향이 일치하기 때문에 pattern fideltiy가 좋아집니다. 그러나, TM mode의 경우 pattern의 방향과 입사하는 빛의 방향이 수직이기 때문에 입사.. 2023. 7. 11. OPC Modeling flow 공정 수준과 Data 거동을 그대로 모사하는 것을 modeling이라고 합니다. OPC modeling은 포토 공정의 CD data의 거동을 그대로 흉내 내어 광근접 보정 효과를 입혀서 원하는 ADI 혹은 ACI target을 얻는 모델링입니다. 같은 공정 같은 layer라고 하더라도 각 공장 site마다 공정 CD 거동이 다를 수 있으므로 site별로 OPC model 제작이 필요합니다. OPC modeling 절차에 대해서 알아보겠습니다. 1. Sampling Plan : 제품의 Design Rule을 바탕으로 min pitch, min ISO space/width, SRAM, patterning weak point들을 Modeling Photo mask에서 추출합니다. 그리고 제품 DB와 현재 추출.. 2023. 7. 7. Resolution & DOF 반도체 기술이 발전함에 따라 chip scaling은 점점 줄어들게 되었습니다. 같은 공정 단가에 chip size를 줄이게 되면 더 많은 chip을 생산할 수 있게 되고 수율 측면에서도 이득이 있기 때문입니다. 그러다 보니 chip 내 들어가는 pattern size도 같이 줄어들게 되었습니다. 그래서 반도체에서는 최대한 작게 만드는 것이 효율적인 생산을 할 수 있습니다. 상기 표를 보시면 시간이 흐름에 따라 노광 설비에 대한 발전이 이뤄지고 그에 따라 chip에 존재하는 가장 작은 size의 pattern 인 Resolution pattern size도 함께 줄어들었습니다. 여기서 흥미로운 점은 Flash, DRAM, Logic 제품군 간에 Resolution pattern size의 shrink 되.. 2023. 7. 6. OPC Error = Model Error + Edge Placement Error 공정 상 발생할 수 있는 측정 오차와 Photo mask CD error 및 포토 설비에서 발생한 CD error는 없다고 가정한 상태에서 OPC Error를 정의할 수 있습니다. OPC Error는 Model Error와 Edge Placement Error가 합쳐진 상태로 정의할 수 있습니다. 우선 OPC Model error는 OPC model의 잘못된 예측으로 발생한 ADI Contour CD - Measure CD = Model Error라고 할 수 있습니다. Model Error가 발생하면 예측력이 떨어지게 된 pattern에 대한 modeling sample을 보강하여 model re-calibration을 진행하거나, Model pattern variaty가 낮은 pattern의 경우, E.. 2023. 7. 5. Edge placement error (EPE) Edge placement error (EPE) is the difference between the intended and the printed features of an IC layout. It involves patterning of tiny features in precise locations. For example, a feature could be a line, and that line has right and left edges. But in a device, the line and its edges must be precise and placed in exact locations. Then, a contact may land on that line in the device. If these.. 2023. 4. 18. NILS & MEEF Normalized Image Log Slope (NILS) is a metric used to evaluate the image quality of lithographic masks, which are used in semiconductor manufacturing to transfer circuit patterns onto silicon wafers. NILS is a measure of the contrast of an aerial image of a mask pattern, which is the image of the pattern that is formed in the air above the mask when it is illuminated by light. It is calculated a.. 2023. 4. 18. What is RET? Resolution enhancement technologies (RET) are techniques used in the field of photolithography to improve the resolution and accuracy of printed images on silicon wafers. The resolution of photolithography is determined by the wavelength of the light used to expose the photoresist. As the wavelength of light used becomes shorter, the resolution of the photolithography process improves. However, .. 2023. 4. 18. Kohler system The Kohler illumination system is a technique used in microscopy to provide even, uniform illumination of the specimen being viewed. This system is named after August Kohler, a German microscopist who first described it in 1893. In a Kohler illumination system, a bright, uniform light source is focused onto the aperture diaphragm of the microscope, which is placed in the intermediate image plane.. 2023. 4. 13. Hopkins Equation what is Hopkins Equation? The Hopkins equation is a mathematical expression used in the field of optics to calculate the resolving power, or spatial resolution, of an optical system such as a microscope or telescope. The equation is named after its developer, British physicist and inventor Frederick Hopkins, who proposed it in 1953. The Hopkins equation is given by: R = 0.61 * λ / (NAobj + NAcon.. 2023. 4. 13. TCC (Transimission Cross-Coefficient) What is TCC? Hopkins equation method는 point source에 대한 회절 정보를 가지고 있으며 한번만 계산해두면 Mask 정보가 바뀌어도 새롭게 Source 및 Pupil에 대한 정보를 계산할 필요가 없는 방식입니다. 이는 미리 TCC를 만들어두고 계속 사용하는 방식입니다. 효율성 측면에선 OPC에 적합합니다 TCC가 계산되어 있으면 Aerial image에 대해서 쉽게 계산이 가능합니다. Transmission cross-coefficient is a term used in the field of optics to describe the amount of light that passes through an optical system. Specifically, it refe.. 2023. 4. 13. 이전 1 2 3 다음 728x90
