OPC Error = Model Error + Edge Placement Error

공정 상 발생할 수 있는 측정 오차와 Photo mask CD error 및 포토 설비에서 발생한 CD error는 없다고 가정한 상태에서 OPC Error를 정의할 수 있습니다. OPC Error는 Model Error와 Edge Placement Error가 합쳐진 상태로 정의할 수 있습니다. 

우선 OPC Model error는 OPC model의 잘못된 예측으로 발생한 ADI Contour CD - Measure CD = Model Error라고 할 수 있습니다. Model Error가 발생하면 예측력이 떨어지게 된 pattern에 대한 modeling sample을 보강하여 model re-calibration을 진행하거나, Model pattern variaty가 낮은 pattern의 경우, Error가 발생한 부분에 대해서 TDLO re-target을 주어 model error 보상을 해주게 됩니다. 

Model Error와 Edge Placement Error의 차이점, 출처 : 직접 작성

그리고, TDLO Target과 OPC 예측 contour가 안맞는 경우 발생하는 Error를 EPE(=Edge Placement Error) 라고 합니다. OPC contour CD - TDLO Target = EPE 로 나오는 값인데, OPC contour가 더 클 경우 Positive EPE라고 하고, OPC contour가 더 작을 경우는 Negative EPE라고 합니다. 이 경우에는 OPC runset을 Fragment(dissection) length 혹은 Fragment point 위치를 변경하여 OPC runset tuning하게 됩니다. 

그 이후, 공정 target ACI MTS와 실측 ACI CD가 안맞는 경우, etch skew error가 발생했다고 할 수 있는데, 이 경우엔 etch skew update를 통해서 bias table을 조정하게 됩니다.