SRAF RULE GENERATION

SRAF은 RET 기술 중 하나로 Sub-Resolution Assit Feature의 약자 입니다. SRAF은 ISO 혹은 SEMI ISO pattern의 DOF margin을 향상해줍니다. Dense pattern보다 ISO pattern인 경우에 Depth of Focus margin이 부족한 경우가 있는데, ISO pattern을 Dense pattern과 유사한 환경으로 만들기 위해 Print 되지 않는 pattern을 photo mask에 삽입해줍니다.
SRAF을 Main feature로 부터 적절하게 떨어진 위치에 적절한 SIZE의 SRAF을 추가하여 DENSE 환경과 같이 만들어 DOF 를 확보해줍니다. 
Pattern edge에는 회절로인한 side lobe가 생기는데 이로인해 pattern quality가 저하됩니다. 이를 제어하기 위해 SRAF을 넣어서 side lobe의 intensity profile 제어하여 main feature의  NILS/Contrast 및 DOF를 향상합니다.

SRAF generation flow

Model Based SRAF generaton flow로는 Aerial model로 Target pattern의 gradient map으로 SRAF이 달릴 위치를 지정해주고 threshold를 기반으로 Aerial contour를 생성합니다. Threshold를 넘지 않으면서 Sibe lobe를 control하여 최적인 size를 설정해주게 됩니다. Threshold를 넘게 되면 wafer에 print되기 때문입니다. SRAF은 Main feature에 가까울 수록, SRAF size가 클수록 효과가 좋습니다. 하지만 SRAF print에 대한 위험성 또한 증가하게 됩니다. 
이렇게 얻어진 SRAF은 실제 wafer 검증을 위해서 Modeling mask에 SRAF size, distance split pattern을 추가합니다. 그리고 제작된 Photo mask를 wafer에 ADI FEM 노광하여 가장 좋은 조건을 찾습니다.  

더 발전된 기술로는 Curvilinear SRAF가 있는데, 전통적인 manhattanized mask pattern에서 벗어나 자유로운 모양으로 SRAF이 생성되어 좀 더 개선된 PV Band와 NILS, DOF를 얻을 수 있습니다. 

SRAF을 ISO pattern에 추가하여 Dense pattern과 같은 optical 환경을 만들어 DOF를 늘려줄 수 있습니다.
* 만약 SRAF printing이 예측되었다면, SRAF size를 줄이거나, Main feature와의 Distance를 벌리거나, SRAF의 길이를 잘라주게 되면 SRAF영향성이 줄어들게 되어 printing risk로부터 벗어날 수 있게 됩니다.